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上海納騰儀器有限公司


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離子束刻蝕/沉積系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號(hào)EIS-200

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海

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所在地區(qū):

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳細(xì)介紹

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)(ECR)的小型離子束蝕刻系統(tǒng),特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄,清洗、沉積等。




EIS-200原理:




利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束,Ar+離子束通過電場(chǎng)加速到達(dá)樣品表面,對(duì)樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優(yōu)點(diǎn):

? 方向性好,各向異性,陡直度高,側(cè)向刻蝕少

? 分辨率高

? 不受刻蝕材料限制,可對(duì)石英等材料進(jìn)行蝕刻

? 可控制蝕刻Taper

? 可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件

? NPD(納米圖案成膜單元)選項(xiàng)(如下圖)



主要功能


納米級(jí)圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

離子束沉積

表面清潔

離子減薄


技術(shù)能力


應(yīng)用

納米級(jí)圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

? SiO2 on Si substrate



? Diamond Substrate(金剛石)

? Quartz (Mask)




? Oriented PET film





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