上海納騰儀器有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)EIS-200
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時(shí)間:2025-01-12 11:25:22瀏覽次數(shù):36次
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EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)(ECR)的小型離子束蝕刻系統(tǒng),特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄,清洗、沉積等。
EIS-200原理:
利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束,Ar+離子束通過電場(chǎng)加速到達(dá)樣品表面,對(duì)樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。
EIS-200具有以下優(yōu)點(diǎn):
? 方向性好,各向異性,陡直度高,側(cè)向刻蝕少
? 分辨率高
? 不受刻蝕材料限制,可對(duì)石英等材料進(jìn)行蝕刻
? 可控制蝕刻Taper角
? 可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件
? NPD(納米圖案成膜單元)選項(xiàng)(如下圖)
主要功能
納米級(jí)圖案刻蝕
高深寬比蝕刻
離子束沉積
表面清潔
離子減薄
技術(shù)能力
應(yīng)用
納米級(jí)圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等
? SiO2 on Si substrate
? Diamond Substrate(金剛石)
? Quartz (Mask)
? Oriented PET film
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