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原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)Nano Indenter® G200

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詳細(xì)介紹

Nano Indenter® G200系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。 G200 測(cè)量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級(jí)的形變測(cè)量。該系統(tǒng)還可以測(cè)量聚合物，凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)（應(yīng)變率靈敏度）。模塊化選項(xiàng)可適用于各種應(yīng)用：頻率特定測(cè)試，定量刮擦和磨損測(cè)試，集成的基于探頭的成像，高溫納米壓痕測(cè)試，擴(kuò)展負(fù)載容量高達(dá)10N 和自定義測(cè)試。

Nano Indenter® G200 系統(tǒng)的美國(guó)工廠是一臺(tái)納米壓痕儀的誕生地，納米劃痕壓痕儀工作原理用的物理模型 Oliver-Pharr 是以工廠前科學(xué)家的名字命名的，無論是國(guó)際上還是國(guó)內(nèi)，KLA Nano Indenter 的都要接近 80%。我們的技術(shù)業(yè)內(nèi)，連續(xù)剛度測(cè)試專用、快速壓痕測(cè)試專用等等，都是其它品牌納米壓痕儀無法提供的。

Nano Indenter® G200 可以提供測(cè)試的納米劃痕、壓痕、摩擦磨損、斷裂韌性、界面附著力、粘彈性測(cè)量和高溫納米壓痕測(cè)試等，的連續(xù)剛度測(cè)量技術(shù)，這個(gè)是 KLA Nano Indenter 的專用技術(shù)，也是寫入中國(guó)薄膜力學(xué)測(cè)試國(guó)標(biāo)的技術(shù)，還有快速壓痕，原位成像功能,高分辨加載功能等等。