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流動氣氛高溫加熱臺

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產(chǎn)品簡介

氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置規(guī)格型號:ET-150LDQF (可定做400度,500度,800度的)氣氛可調(diào)節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

  氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置規(guī)格型號:ET-150LDQF (可定做400度,500度,800度的)氣氛可調(diào)節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。氣氛型可調(diào)高溫加熱裝置也可以根據(jù)用戶的需進(jìn)行定制。

流動氣氛高溫加熱臺

  中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設(shè)備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現(xiàn)變溫環(huán)境模擬,且不同氣氛環(huán)境以共用。

  在研的“工業(yè)級與科研級特種紅外高溫爐”,具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調(diào)(一臺設(shè)備同時實現(xiàn)大氣/真空/惰性氣體等)的優(yōu)點。目前美日等國已發(fā)展出部分相關(guān)的專用高溫爐,我國仍是空白。

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  氣氛可調(diào)節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進(jìn)行太陽能電池/化合物半導(dǎo)體等的工藝開發(fā)和各種應(yīng)用程序的安裝。

  此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需進(jìn)行定制。

  一:氣氛型可調(diào)高溫加熱臺技術(shù)參數(shù):

  1、整體外形尺寸:長230 X寬190X 高185mm

  2、加熱面積尺寸:160mmX160mm

  3、有效恒溫面積:100mmX100mm

  4、 控溫范圍:室溫--600℃

  5、控溫精度:±1%℃(無氣流下)

階梯式加熱試驗

  6、電源輸入:AC220V 10A

  7、加熱功率:600W

  8、氣氛:空氣或惰性氣體

  9、溫度分辨率:0.1℃

  10、加熱面板材料: 309S不銹鋼(耐高溫)

流動氣氛加熱臺

  流動氣氛加熱設(shè)備簡介

  1)本品在加熱臺的蓋上內(nèi)置一個多通道氣孔模塊,在蓋的側(cè)面上增加了可控的氣體進(jìn)出通道,該通道可與直徑8、10、12三種不同的氣管匹配,氣管可與空氣或惰性氣體的氣源(如空氣壓縮泵或氣體鋼瓶等,自配)相連。

  2)本品上蓋內(nèi)部的多通道氣孔模塊采用三維立體氣道結(jié)構(gòu)設(shè)計,大大延長氣體在蓋中通道經(jīng)過的路徑,從而可以把導(dǎo)入的常溫氣體溫度迅速升高十倍,保證內(nèi)置模塊中吹出的的氣體具有較高溫度,避免熱臺上的玻璃遇冷發(fā)生破碎。

  3)本品采用超大功率加熱面板,保證熱臺溫度不會因為氣氛而發(fā)生明顯降低。

  4)本品上蓋內(nèi)部的多通道氣孔模塊氣孔均勻分布在110X110mm 的范圍內(nèi),保證熱臺中的氣氛均勻。

  5)本品與加熱臺相連的接管端裝有三塊超大圓形散熱片,可以把溫度降到,避免接管燙壞。

800度高溫加熱板

  二:流動氣氛高溫加熱臺產(chǎn)品特點:

  1.本品可用于流動氣氛高溫加熱,即在加熱的過程中,為受熱樣品提供一個可調(diào)控的流動氣體的保護(hù)氛圍。

  2.基于可調(diào)控的流動氣體的功能,對于空氣敏感的樣品的加熱,本品不僅可以保護(hù)樣品不易氧化,還可以保護(hù)濕度敏感的樣品不易吸潮。

  3.基于可調(diào)控的流動氣體的功能,對于半導(dǎo)體電極膜層的高溫?zé)Y(jié),本品可以使電極膜層中的高分子物質(zhì)在高溫下形成碳化后隨著氣流迅速逃離膜層表面,不會堵塞納米孔,從而有利于電極膜層的造孔功能。

  4.設(shè)定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

  5.多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機(jī)構(gòu)的高速氣體淬火

  6.可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設(shè)定和外部信號

  7.另外可以在電腦上顯示加蒸中的溫度數(shù)據(jù)

流動氣氛高溫設(shè)備

  流動氣氛加熱設(shè)備用途:

  1)本品可用于常規(guī)高溫加熱,溫度600度,且室溫到600度之間升溫速率可控。

  2)本品還可用于流動氣氛高溫加熱,即在加熱的過程中,為受熱樣品提供一個可調(diào)控的流動氣體的保護(hù)氛圍。

  3)基于可調(diào)控的流動氣體的功能,對于空氣敏感的樣品的加熱,本品不僅可以保護(hù)樣品不易氧化,而且還可以保護(hù)濕度敏感的樣品不易吸潮。

  4)基于可調(diào)控的流動氣體的功能,對于半導(dǎo)體電極膜層的高溫?zé)Y(jié),本品可以使電極膜層中的高分子物質(zhì)在高溫下形成碳化后隨著氣流迅速逃離膜層表面,不會堵塞納米孔,從而有利于電極膜層的造孔功能。

動氣氛加熱設(shè)備用途

  更多應(yīng)用行業(yè):

  太陽能電池基板的熱處理

  在氣氛環(huán)境下的熱處理

  各種材料的基礎(chǔ)研究氣氛退火熱處理

  模擬器漸變熱處理

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  半導(dǎo)體材料的燒結(jié)和工藝退火爐

關(guān)鍵詞:控制器 冷卻機(jī)
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